[보안뉴스]NIA, 국산 양자 소부장 기술 보급 팔 걷는다

내용 요약

한국지능정보사회진흥원(NIA)과 과학기술정보통신부가 15일부터 한 달간 진행하는 국산 양자기술 소부장 보급·활용 지원사업은 국내 중견·중소·벤처기업, 대학·연구소·공공기관을 대상으로 한달 최대 1억원 지원을 통해 양자 분야 소재·부품·장비의 국산화를 촉진합니다.

핵심 포인트

• 대규모 금전 지원: 수요처당 최대 1억원(10,000만원) 지원, 한 달간 집중 모집
• 대상 다층화: 중견·중소·벤처기업, 대학·연구소·공공기관까지 광범위 포괄
• 국산화 목표: 양자분야 소재·부품·장비의 현지 생산·구축을 가속

기술 세부 내용

1️⃣ 국산 양자소재 개발·공급

• 목적: 양자컴퓨팅·양자통신에 필수인 고순도 실리콘, 도핑재, 나노포토닉 소재를 국내에서 개발·제조
• 단계
  1. 요구 분석 – 국내 기업·연구기관의 실험·시제품 요구 사항 수집
  2. 연구 개발 – 소재의 물리적·화학적 특성을 최적화 (전기전도성, 코히어런스 시간 등)
  3. 프로토타이핑 – 실험실 규모에서 시제품 제작, 성능 검증
  4. 산업화 – 대량 생산 라인 구축, 품질 인증, 공급망 확보
• 혜택
  • 수요처는 1억원 지원으로 소재 구매 비용 절감
  • 국내 소재 기술 역량 강화로 수출 기회 확대

2️⃣ ⚙️ 국산 양자부품·장비 보급·활용 지원

• 목적: 양자회로, 양자센서, 양자테크 실험 장비를 국내에서 조달·구축
• 단계
  1. 벤치마킹 – 선진국(미국·유럽) 현황 조사 및 국내 필요성 정의
  2. 파트너십 구축 – 국내 소재·부품 제조업체와 장비 설계·제조사 협업 체결
  3. 시제품 테스트 – 학계·산업 현장에 설치 후 성능 테스트
  4. 전문가 교육 – 사용자 대상 운영·유지보수 교육 프로그램 제공
• 혜택
  • 장비 도입 시 수요처는 1억원 중 일부를 지원받아 초기 투자 부담 완화
  • 국산 부품·장비를 활용해 제품화까지의 리드타임 단축

3️⃣ 프로젝트 운영 및 지원 구조

• 모집 기간: 15일부터 한 달간(예: 15일-14일)
• 지원 규모: 수요처당 최대 1억원, 예산은 기획·제작·연구·교육 등 전면 포괄
• 심사 절차
  1. 신청서 접수 – 사업 계획서, 예산안 등 필수 서류 제출
  2. 서류 심사 – 실현 가능성·경제성 검토
  3. 현장 평가 – 현장 방문·설명회 진행
  4. 결과 발표 – 선정된 수요처에 지원금 및 기술 지원 제공

정리: NIA와 과학기술정보통신부가 주도하는 이 사업은 양자 분야에서 국내 소재·부품·장비 국산화를 가속화하며, 대규모 지원금으로 연구·개발·실용화 단계의 비용 부담을 크게 줄여줍니다.

 

출처: http://www.boannews.com/media/view.asp?idx=139235&kind=&sub_kind=